研究室での金属サンプル研究用高真空誘導溶解炉

基本情報

製品説明

誘導溶解炉の導入：
この製品は誘導加熱を備えた真空誘導炉であり、装置の溶解温度は2000℃に達することができます。 この炉はステンレス鋼の水冷チャンバーを採用しており、サンプルの溶融を観察するための石英観察窓が装備されており、金属サンプルの溶融と熱処理、状態図の研究に適しています。 この装置は高品質の高周波誘導電源を使用しており、カスタム60KW高周波誘導電源の最大のサポートです。 この装置には高真空分子ポンプセットが装備されており、基板の真空を効果的に高め、溶解品質を向上させることができます。 この装置には、昇降プラットフォーム、フリップハンドル、水冷銅るつぼも装備されており、オペレーターが溶解後の鋳造やサンプリング作業を行うのに便利です。
この装置は包括的な機能、高速溶解、使いやすさ、省エネ、環境保護を備えており、金属サンプルの実験室研究に非常に適しています。

誘導溶解炉の技術パラメータ: